发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung mit der selektiven Abscheidung eines Metalls
摘要
申请公布号 DE69132516(T2) 申请公布日期 2001.06.28
申请号 DE1991632516T 申请日期 1991.06.03
申请人 CANON K.K., TOKIO/TOKYO 发明人 SATO, YASUE
分类号 C23C16/02;C23C16/34;C23C16/40;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/311;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/3205;H01L31/20;(IPC1-7):H01L21/285 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人
主权项
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