| 发明名称 | 用于半导体制造之静电吸盘用吸着板 | ||
| 摘要 | 本创作系有关于一种「用于半导体制造之静电吸盘用吸着板」之新式样设计。如图所示者:本创作主体为陶磁制,内部藏有铜箔电极,外观呈圆板状，顺着圆心有小孔向外扩散分布。如第7图所示,安装于真空容器内,将内部电极连接于直流电源之同时,将高频电力施加于接受器及上部电极间产生电浆。将晶圆以静电吸着于本吸着板上,将电热气体通过该板之小孔,供给于晶圆及该板之间,冷却晶圆。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容;理应明了,新式样系就其整体形状、花纹、或色彩指定之,且系以申请专利范围所界定者为准。 | ||
| 申请公布号 | TW419340 | 申请公布日期 | 2001.01.11 |
| 申请号 | TW087305524 | 申请日期 | 1998.07.28 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 野中龙;田口千博 |
| 分类号 | 主分类号 | ||
| 代理机构 | 代理人 | 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼 | |
| 主权项 | 一种如图所示「用于半导体制造之静电吸盘用吸 着板」之形状者。图式简单说明: 第一图所示系本创作之前视图; 第二图所示系本创作之后视图; 第三图所示系本创作之右侧视图(左侧视图与之对 称); 第四图所示系本创作之俯视图; 第五图所示系本创作之仰视图; 第六图所示系本创作之A-A线放大截面图; 第七图所示系本创作之使用状态例示截面参考图; 以及 第八图所示系本创作之立体图。 | ||
| 地址 | 日本 | ||