| 摘要 |
Durch ein Gehäuse (1) einer Behandlungsanlage führen zwei umlaufende Bänder (13, 14) hindurch, welche sich im Bereich einer Durchführung (9) auf der Eingangsseite und einer Durchführung (10) auf der Ausgangsseite jeweils mit einem Trum gegenseitig berühren. Zwischen diesen sich berührenden Trums der Bänder (13, 14) wird ein Substrat (6) in die Kammer (1) hinein und aus ihr herausgeführt. Innerhalb der Kammer (1) sorgen Umlenkrollen (21, 22, 23, 24) dafür, dass das untere Trum des Bandes (14) vom Substrat freikommt, so dass das Substrat (6) dort von einer Behandlungseinrichtung (5) behandelt, insbesondere bedampft werden kann.
|
