| 发明名称 |
METHOD FOR CMP OF LOW DIELECTRIC CONSTANT POLYMER LAYERS |
| 摘要 |
A method for chemical-mechanical polishing of a low dielectric constant polymeric layer wherein a slurry comprising high purity fine metal oxide particles uniformly dispersed in a stable aqueous medium is used.
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| 申请公布号 |
WO0049647(A1) |
申请公布日期 |
2000.08.24 |
| 申请号 |
WO2000US03893 |
申请日期 |
2000.02.16 |
| 申请人 |
RODEL HOLDINGS, INC. |
发明人 |
HOSALI, SHARATH, D. |
| 分类号 |
C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
C09G1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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