发明名称 | 利用磁场的微波增强型CVD系统和方法 | ||
摘要 | 本发明展示一种改进的化学气相淀积法;在这种方法中,回旋共振与光或等离子体化学气相淀积法相配合,以高的淀积速度淀积具有高性能的薄膜。高淀积速度归因于回旋共振,而高质量性能归因于两种化学气相淀积法(CVDs)的组合。 | ||
申请公布号 | CN1053229C | 申请公布日期 | 2000.06.07 |
申请号 | CN94106740.8 | 申请日期 | 1986.10.14 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平 |
分类号 | C23C16/50;H01J37/32 | 主分类号 | C23C16/50 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 萧掬昌;张志醒 |
主权项 | 1.一种等离子体处理方法,其特征在于它包括:将一处理气体引进一反应室;通过反应室的壁以一预定方向将微波射进该反应室;用一磁场施感装置在反应室中施感电磁场而形成电子回旋共振,以便将所说处理气体转变为等离子体;以及将一具有待处理表面的衬底置放在反应室中;以便所说衬底离开所说反应室的壁;其中,反应室的壁与所说衬底之间的空间是不受限制的,因而所说等离子体通过所说反应室装置到所说衬底的流动也是不受限制的。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |