| 发明名称 | 光刻机相位光栅离轴照明光学系统 | ||
| 摘要 | 光刻机相位光栅离轴照明光学系统，属于半微米至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是聚光镜与掩模板之间是一个与掩模面平行的相位光栅板，它的上下表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的方向互相垂直线形光栅，光栅方向与掩模图形方向一致。相位光栅板结构简单，取放方便，实用范围大，照明均匀性好，光能量利用率高，变三束光为两束光成像，提高光刻分辨力和焦深，适合大规模生产。 | ||
| 申请公布号 | CN2352974Y | 申请公布日期 | 1999.12.08 |
| 申请号 | CN98229439.5 | 申请日期 | 1998.09.03 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 罗先刚;姚汉民;陈旭南 |
| 分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人 | 张一红;孙媛璞 |
| 主权项 | 1．光刻机相位光栅离轴照明光学系统，来自光源(1)的光经集光镜(3)、积分镜(4)和聚光镜(7)等照射到掩模上，被照明的掩模图形通过光刻物镜(10)投影成像于硅片(11)上，其特征在于在聚光镜(7)与掩模板(9)之间是一个与掩模面平行的相位光栅板(8)，其光栅方向与光刻图形方向一致，相位光栅板(8)的上下表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的线形光栅，且上下光栅方向垂直。 | ||
| 地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 | ||