| 主权项 |
1.一种辐射紫外线之设备,用以去除例如晶圆或玻璃基片之基材的表面有机物,该设备至少包含:一真空室,在一侧上,提供有一气体供给部及一真空排气部;一光源提供于真空室的上侧,用以发射紫外线至基材表面;一支撑台,用以支撑该基材;及一控制部,其中,该室的内部之低真空状态系于360~1毫托耳,来自光源之紫外线系照射于该基材的表面上。2.如申请专利范围第1项所述之辐射紫外线之设备,其中上述之真空室之内部的真空状态系连续的改变于1毫托耳之最大压力内的压力中。3.一种辐射紫外线之设备,至少包含:一上下驱动部,用以上下驱动基材,一处理室,提供在该上下驱动部之上,一石英窗提供在该处理室的顶部,及一光源部,其特征在于:该石英窗密封该基材的整个辐射区域,一外壳系固定至该石英窗,以形成气密式密封空间,该气密式密封空间之中系提供以一光源,用以照射该基材的一部份,及一驱动源,用以驱动该光源,该光源系驱动于基材的左及右边。4.于如申请专利范围第3项所述之辐射紫外线之设备,其中上述之外壳的侧壁系被提供有氮喷气部。5.如申请专利范围第3或4项所述之辐射紫外线之设备,其中一冷却流体路径系提供在该外壳之上壁或在一驱动板上,该驱动板使驱动源及光源彼此相连接。6.如申请专利范围第3或4项所述之辐射紫外线之设备,其中上述之驱动源系由一伺服马达,一螺旋轴连接至该伺服马达之输出轴并被安排在外壳之两侧壁上,光源系沿着该螺旋轴移动,该伺服马达系被控制以变化光源的移动速度或重覆驱动两或更多次。7.如申请专利范围第3或4所述之辐射紫外线之设备,其中上述之驱动源包含液压单元,其具有气缸及活塞机构。图式简单说明:第1图为用于制造一半导体装置或驱动装置之照射紫外线的传统设备;第2图为依据本发明之一实施例之照射紫外线之设备;及第3图为依据本发明之另一实施例之照射紫外线的设备。 |
