| 发明名称 | 光致抗蚀剂聚合物、含有其的组合物和图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光致抗蚀剂聚合物及含有该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂组合物。小于50纳米的光致抗蚀剂图案是使用EUV(极远紫外线)作为曝光光源，由包含下列成份的光致抗蚀剂组合物来获得的：(i)包含式2聚合重复单元的光致抗蚀剂聚合物或(ii)包含式3聚合重复单元的光致抗蚀剂聚合物与聚乙烯基苯酚。结果，虽然该光致抗蚀剂图案具有极小的厚度，但仍可取得优越的抗蚀刻性。其中R<SUB>1</SUB>、R<SUB>2</SUB>、R<SUB>3</SUB>、R<SUB>4</SUB>、R<SUB>5</SUB>、R<SUB>6</SUB>、R<SUB>7</SUB>、R<SUB>8</SUB>、R<SUB>9</SUB>、R<SUB>10</SUB>、R<SUB>11</SUB>、R<SUB>12</SUB>、a、b、c、d、e、f及g如说明书中所定义。∴∴ | ||
| 申请公布号 | CN1313880C | 申请公布日期 | 2007.05.02 |
| 申请号 | CN200410061832.0 | 申请日期 | 2004.06.25 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑载昌 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂聚合物，其包含式2或3所示的聚合重复单元：式2<img file="C2004100618320002C1.GIF" wi="1133" he="673" />其中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>及R<sub>4</sub>独立地为氢或甲基；R<sub>5</sub>及R<sub>6</sub>独立地为直链C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>亚烷基或支链C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>亚烷基；R<sub>7</sub>是酸不稳定保护基；且a∶b∶c∶d＝20～60摩尔％∶5～20摩尔％∶3～15摩尔％∶20～50摩尔％，式3<img file="C2004100618320002C2.GIF" wi="947" he="669" />其中R<sub>8</sub>、R<sub>9</sub>及R<sub>10</sub>独立地为氢或甲基；R<sub>11</sub>是直链C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>亚烷基或支链C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>亚烷基；R<sub>12</sub>是酸不稳定保护基；且e∶f∶g＝30～60摩尔％∶5～25摩尔％∶30～50摩尔％。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||