| 发明名称 | 同时在两侧进行防水处理的机构 | ||
| 摘要 | 在其上排列有多个光学透镜基体材料的基体托座(22)可旋转地装在真空氛围中,并具有一用于在光学透镜基体材料的表面上形成防水膜的真空处理室(16),另外,在此真空处理室中装有两面同时防水处理的机构。相对于基体托座(22),设置了一上侧的防水处理装置(30)和一下侧的防水处理装置(40),上侧的防水处理装置在光学透镜基体材料的上侧形成防水膜,而下侧的防水处理装置则在光学透镜基体材料的下侧形成防水膜。这种构形在光学透镜基体材料的两面同时形成防水膜。用于防水处理的膜厚修正机构由用于修正膜厚差的膜厚修正板(5l,52)组成,它布置在防水处理装置与光学透镜基体材料之间。 | ||
| 申请公布号 | CN1226971A | 申请公布日期 | 1999.08.25 |
| 申请号 | CN98800652.9 | 申请日期 | 1998.05.18 |
| 申请人 | 保谷株式会社 | 发明人 | 嘉村齐;葭原雅章;神谷肇 |
| 分类号 | G02B1/11;G02B1/10;G02C7/02;C23C14/24 | 主分类号 | G02B1/11 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘志平 |
| 主权项 | 1．一在真空处理室(16)中的两面同时进行防水处理的机构，在该室中，在真空氛围中可旋转地安装有在其上排列有多个光学透镜基体材料(24)的托座(22)，并且在上述光学透镜基体材料(24)的表面上沉积防水膜，防水处理机构的特征为：对上述托座(22)提供一上侧的防水处理装置(30)和一下侧的防水处理装置(40)，其中，上述上侧的防水处理装置(30)在上述光学透镜基体材料(24)的上侧形成防水膜，而上述下侧的防水处理装置(40)则在上述光学透镜基体材料(24)的下侧形成防水膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||