| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING PHOTORESIST FEATURES HAVING REENTRANT PROFILES USING A BASIC AGENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0929841(A1) |
申请公布日期 |
1999.07.21 |
| 申请号 |
EP19970938488 |
申请日期 |
1997.08.20 |
| 申请人 |
MKE-QUANTUM COMPONENTS COLORADO LLC |
发明人 |
DUVAL, PAUL, J. |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/09;G03F7/095;G03F7/11;G03F7/16;G03F7/38;G11B5/31;G11B5/39;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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