发明名称 滚筒密闭式拭夹擦(第四追加)
摘要
申请公布号 TW021312 申请公布日期 1976.12.01
申请号 TW019358 申请日期 1974.08.02
申请人 杨德操 发明人 杨德操
分类号 B43L21/00 主分类号 B43L21/00
代理机构 代理人
主权项 1﹒一种平移(移动或正动)拭灰之拭灰擦其拭灰面为含纤维胶膜或布面直接黏合于一基底上,其含纤维胶膜或布面可分为若干有相当面积之纵列长条直接黏合于其基底上;其含纤维胶膜或布面可为静电植毛法所植之直立绒毛,其基底之拭擦面有相当面积之凸出及凹入纵列长条而各凸出长条上直接黏有含纤维胶膜或布面;其直接黏合含纤维胶膜或布面之基底为一体成型制成;其直接黏合含纤维胶膜或布面之一体成型基底含近似同一之横切面且构成之拭灰擦亦含近似同一横切面;其基底为一体成型而任一表面或侧面有纵向肋条或侧缘使基底含近似同一之横切面,其拭灰面周围装有滚筒及可弹动之集灰薄膜在待擦表面上围成一密闭之待擦面积而于其密闭范围中拭擦灰粉者。2﹒依第1款所述一种平移拭灰之拭灰擦其拭灰面为含纤维胶膜或布面直接黏合于一基底上而制成者。3﹒依第2款所述一种平移拭灰之拭灰擦其拭灰面为含纤维胶膜或布面分为若干具相当面积之纵列长条直接黏合于其基底上者。4﹒依第2款所述一种平移拭灰之拭灰擦其拭灰面为含纤维胶膜或布面为静电植毛法所植之直立绒毛者,5依第1款所述一种平移拭灰之拭灰擦其基底之拭整面有若干具相当面积之凸出及凹入纵列长条而各凸出长条上直接黏有含纤维胶膜或布面。6﹒依第1款所述一种平移拭灰之拭灰擦其拭灰面为含纤维胶膜或布面之基底且其基底为一体成型者。7﹒依第六款所述一种平移拭灰之拭灰擦其直接黏合含纤维胶膜或布面之一体成型而基底含近似同一之横切面且构成一含近似同一横切面之拭灰擦者。8﹒依第一款所述一种平移拭灰之拭灰擦其基底为一体成型而其任一表面或侧面有纵向肋条或侧缘并使基底含近似同一横切面者。9﹒依第一款所述一种拭灰擦其有可弹动之基底使拭灰面于不受外力时缩入集灰框之内而拭灰时能压出直抵于侍擦平面上拭灰者。
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