COMPOSITION COSMETIQUE ET/OU DERMATOLOGIQUE ACIDE CONTENANT UN POLY(ACIDE 2-ACRYLAMIDO 2-METHYLPROPANE SULFONIQUE) RETICULE ET NEUTRALISE A AU MOINS 90 %

摘要

L'invention se rapporte à une composition cosmétique et/ou dermatologique contenant un milieu aqueux acide et au moins un polymère poly(acide 2-acrylamido 2 méthylpropane sulfonique) réticulé et neutralisé à au moins 90%. Il comprend en général, distribués de façon aléatoire:
a) de 90 à 99,9% en poids de motifs de formule générale (1) suivante:
(CF DESSIN DANS BOPI)
dans laquelle X**+ désigne un cation ou un mélange de cations, au plus 10% mol des cations X**+ pouvant être des protons H**+;
b) de 0,01 à 10% en poids de motifs réticulants provenant d'au moins un monomère ayant au moins deux doubles-liaisons oléfiniques; les proportions en poids étant définis par rapport au poids total du polymère.
L'invention se rapporte aussi à une utilisation de cette composition pour le traitement cosmétique des matières kératiniques en particulier la peau, les cheveux et les muqueuses notamment à un procédé non-thérapeutique de dépigmentation de la peau.