| 发明名称 |
PLASMA CVD DEVICE AND METHOD, AND DRY ETCHING DEVICE AND METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09106899(A) |
申请公布日期 |
1997.04.22 |
| 申请号 |
JP19950288117 |
申请日期 |
1995.10.11 |
| 申请人 |
ANELVA CORP |
发明人 |
SEKIGUCHI ATSUSHI;TOBE RIYOUKO;SASAKI MASAO;TAKAGI KENICHI |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/509;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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