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发明名称 Plasma treatment method and apparatus
摘要
申请公布号 SG32337(A1) 申请公布日期 1996.08.13
申请号 SG19950000297 申请日期 1995.04.20
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED;TOKYO ELECTRON YAMANASHI LIMITED 发明人 TOMOYASU MASAYUKI;KOSHIISHI AKIRA;IMAFUKU KOSUKE;ENDO SHOSUKE;TAHARA KAZUHIRO;NAITO YUKIO;NAGASEKI KAZUYA;HIROSE KEIZO;KOMINO MITSUAKI;TAKENAKA HIROTO;NISHIKAWA HIROSHI;SAKAMOTO YOSHIO
分类号 H01L21/00;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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