| 主权项 |
1.一种加热于一导电性工作件之装置,其沿一路径 移动, 包含: 一非液体冷却式感应线圈,至少在局部包覆该路径 之一纵 向段;及 一耦合于该感应线圈之中频振荡电流源。2.根据 申请专利范围第1项之装置,其中该感应线圈包含 至少一条完全包覆于该路径纵向段外之配线。3. 根据申请专利范围第1项之装置,其中该感应线圈 包含 一扁平线圈,其至少在局部包覆于该路径之纵向段 外。4.根据申请专利范围第3项之装置,其中该感应 线圈包含 若干隔离卷绕之扁平次线圈,其近端缘处绕于该路 径之纵 向段。5.根据申请专利范围第1项之装置,其中该感 应线圈系作 对流式冷却。6.根据申请专利范围第1项之装置,其 中该装置并无任何 心体以将能源自该感应线圈集中至该工作件。7. 根据申请专利范围第4项之装置,其更可加热于若 干之 该导电性工作件,其中该工作件包含而对面之板状 物件, 且其中该物件系沿该路径作堆积移动。8.一种加 热于若干导电性金属罐端之装置,各该金属罐端 呈碟状,且于其周侧设有一卷边,包含: 一感应线圈,至少在局部包覆一路径之纵向段;及 一装置,用以沿该路径之纵向段作堆积式移动该金 属罐端 。9.一种加热于一导电性工作件之装置,其沿一路 径移动, 包含: 一扁平线圈,至少在局部包覆该路径之一纵向段, 该扁平 线圈包含至少一扁平之次线圈; 一耦合于该至少一扁平线圈之变化电流源; 一管子,其具有一管壁,同时具有一包覆该路径之 纵向段 的周边;以及 一磁石,其占据该管子之周边的一部分弧形; 其中,该扁平线圈大致上正对着该管子之周边,但 该磁石 所占据的弧形部分除外。10.根据申请专利范围第9 项之装置,其中该磁石系永久磁 石且沿该导管作纵向延伸。11.一种导热装置,用于 固化使用在一导电性工作件之液 体,包含: 一感应线圈,至少在局部包覆该工作件;及 能源供应装置,用以在该感应线圈中产生一具有大 约在6 至20 KHz间之振荡频率之电流。12.一种用于处理若 干强磁性金属罐端之装置,包含: 一装置,用以保持该罐端大致呈水平关系,及 一磁力装置,用以磁力性地间隔该罐端,其系藉由 产生一 磁场来完成,该磁场可以有效地引起罐端分开来, 以便共 享该磁场。13.根据申请专利范围第12项之装置,其 中该磁场以水平 方式分级。14.根据申请专利范围第12项之装置,其 更包含一用以在 该金属罐两端作空气循环之装置。15.根据申请专 利范围第12项之装置,其中该磁力装置将 该罐端保持在间隔且面对面之关系。16.根据申请 专利范围第12项之装置,其更包含: 一表面,接近于该金属罐端;及 一装置,用以克服该金属罐端与该表面间之摩擦。 17.根据申请专利范围第15项之装置,其中该金属罐 端呈 圆柱之罐端状,且其中该磁力装置包含沿该圆柱作 纵向延 伸之磁石。18.根据申请专利范围第15项之装置,其 中该金属罐端呈 圆柱之罐端状,且其中该磁力装置包含一沿该圆柱 作纵向 延伸之挠性永久磁石。19.根据申请专利范围第17 项之装置,其更包含一沿该圆 柱作纵向延伸之表面,该磁石将该金属罐端吸往该 表面, 该装置更包含一振动装置,用以将该金属罐端振动 脱离该 表面而藉磁石达成磁性间隔。20.根据申请专利范 围第12项之装置,其更包含一推动装 置,用以沿一大致呈水平之路径推动该金属罐端。 21.根据申请专利范围第20项之装置,其中该用于保 持之 装置具有一输入端及一出口端,且其中该推动装置 包含: 一将金属罐端附设于该装置输入端之装置,用以保 持;及 一将金属罐端自该装置之出口端移除之装置,用以 保持。22.根据申请专利范围第19项之装置,其中该 振动装置更 可用以磁性及纵向地在金属罐所间隔之范围中将 其推动。23.一种用于沿一圆柱间隔若干工作件之 装置,包含: 一磁石,沿该圆柱作纵向延伸;及 一安装装置,用以在一沿该圆柱之第一纵向位置保 持该磁 石靠近该圆柱,以及在远离圆柱沿圆柱之一第二纵 向位置 处。24.根据申请专利范围第23项之装置,其中该工 作件系金 属罐端且其中该圆柱大致保持呈水平状。25.一种 用于间隔若干强磁性金属罐端之装置,包含: 一装置,用以沿一弯曲路径保持该金属罐端成面对 面关系 ;及 一挠性永久磁石,系沿该弯曲路径作纵向设置。26. 一种用于处理若干金属罐端之装置,包含: 一用于处理该金属罐端之装置;及 一磁力推动装置,用以沿一输送路径磁性地推动该 金属罐 端; 其中该磁性推动装置包括: 复数个电磁石,沿着该输送路径径向配置着;以及 控制装置,其用以依序激化该等电磁石。27.根据申 请专利范围第26项之装置,其中该控制装置至 少在三相对该电磁石充电。28.根据申请专利范围 第26项之装置,其中该金属罐端系 强磁性,且其中该控制装置对电磁石充电之方式系 将各该 金属罐端吸向该电磁石之下一连续者。29.根据申 请专利范围第26项之装置,其中该金属罐端系 铝制,且其中该控制装置对电磁石之充电方式系将 各该金 属罐端斥离其中一电磁石,并趋向该电磁石之下一 连续者 。30.根据申请专利范围第26项之装置,其更包含一 装置, 用于保持该罐端大致呈面对面之关系。31.根据申 请专利范围第26项之装置,其中该电磁石各包 含一设于该输送路径下方且与之面对之扁平线圈, 更包含 一支持装置,系设于该电磁石上方且沿着该输送路 径,用 以支持该罐端平置于该支持装置上。32.根据申请 专利范围第26项之装置,其更可用于导应加 热该金属罐端,其中该控制装置包含一使用交流电 以持续 对电磁石充电之装置。33.根据申请专利范围第32 项之装置,其中该交流电具有 一介于6 KHz至大约20 KHz之频率。34.一种用于处理 若干强磁性金属罐端之装置,包含: 一间隔装置,用以磁性地间隔该金属罐端,其系藉 由一磁 石完成,该磁石可有效地引起该等罐端分开来,以 便共享 该磁场;及 一推动装置,用以沿一输送路径磁性地推动该罐端 。35.根据申请专利范围第34项之装置,其更包含一 装置, 用以在间隔及推动时保持罐端成大致水平关系。 36.一种用于处理若干金属罐盖之方法,包含如下之 步骤 :以面对面方式将金属罐盖与另者作感应加热;及 同时磁性间隔该金属罐盖,其系藉由一磁石完成, 该磁石 可有效地引起该等罐端分开来,以便共享该磁场。 37.一种乾燥水基封闭剂化合物之方法,该化合物系 涂布 于衆导电性罐端,该方法包括以下步骤: 供应衆罐端于一乾燥机之入口,该等罐端已涂覆着 水基封 闭剂化合物; 运送该等罐端并沿着非导电性支撑结构以面对面 的方式使 该等罐端通过该乾燥机; 在运送步骤中,使该等罐端通过一交变磁场,以便 在该等 罐端产生电流,进而以感应方式加热该等罐端,并 且藉此 加热涂覆在该等罐端上的化合物,以便将水从该化 合物中 去除。38.根据申请专利范围第37项之方法,其中该 非导电性支 撑结构包括一非导电性管子。39.根据申请专利范 围第38项之方法,其中该磁场是由一 包覆在该管子周围的导电体产生,而且该导电体系 连接至 一交流源。40.根据申请专利范围第37项之方法,其 中以面对面方式 将该等罐端运送过该乾燥机之步骤包括将该等罐 端以面对 面接触的方式运送通过该乾燥机。41.根据申请专 利范围第37项之方法,进一步包括:在该 运送步骤中,以磁性方式将该等罐端间隔开来。42. 根据申请专利范围第41项之方法,其中该间隔步骤 包 括产生一磁场的步骤,而该磁场能有效地将该等罐 端隔开 ,以便分享该磁场。43.一种加热涂覆于衆罐端上之 化合物材料的装置,包括 : 一非导电性支撑,其被结构化以便在该等罐端以面 对面关 系沿该支撑运送着的时候能支撑该等罐端; 一交流源; 一导电体,连接至该交流源并且配置的够靠近该支 撑,以 便产生在该支撑内产生一交变磁场;以及 一运送装置,其将该等罐端以面对面的关系沿着该 支撑运 送并且通过该交变磁场,以便在该等罐端产生电流 ,进而 以感应方式加热该等罐端,并且藉此加热涂覆于该 等罐端 上的化合物材料。44.根据申请专利范围第43项之 装置,其中该非导电性支 撑包括一非导电性管子。45.根据申请专利范围第 44项之装置,其中该导电体系包 覆在该管子的周围。46.根据申请专利范围第43项 之装置,其中该运送装置将 该等罐端以面对面接触的方式沿着该支撑结构运 送。47.根据申请专利范围第43项之装置,进一步包 括一磁性 隔离用元件,用以在该等罐端沿该支撑运送时能将 该等罐 端间隔开来。48.根据申请专利范围第43项之装置, 进一步包括一磁铁 ,其配置成能在该支撑内产生一磁场,而该磁场能 够有效 地将该等罐端隔开,以便分享该磁场。49.根据申请 专利范围第43项之装置,其中该运送装置包 括一将该等罐端沿该支撑以面对面关系运送的装 置。50.根据申请专利范围第49项之装置,其中该运 送装置包 括一磁性轮,其将该等罐端沿该支撑以面对面的关 系推动 。图示简单说明: 图1为根据本发明装置之侧面图。 图2为说明图1之装置中所产生若干磁通线之图。 图3为图1中所示各心体之一顶部图,连同图1中金属 罐封 闭物之一。 图4为本发明之另一具体实例之正面图。 图5为取自图4中线5—5之一顶部图。 图6及7分别为本发明另一具体实例之侧面图及一 横断面。 图8及9说明根据本发明之推动技术。 图10及11为根据本发明装置之侧面图,例示其各自 之特色 。 图12为根据本发明装置之一部份之顶部图,可与例 如图1 |
