发明名称 PROCESS OF PLASMA CHEMICAL REMOVAL OF FILMS OF PHOTORESIST
摘要
申请公布号 RU1653484(C) 申请公布日期 1995.08.20
申请号 SU19894750949 申请日期 1989.10.23
申请人 NAUCHNYJ FIZIKO-TEKHNOLOGICHESKIJ TSENTR 发明人 BUDYANSKIJ A.M.;POKROEV A.G.;EFREMOV A.N.;LEBEDEV E.A.;GOMZHIN I.V.
分类号 H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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