| 发明名称 |
Semiconductor device with a gate having asymmetric sidewalls, and a production method thereof. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0392120(B1) |
申请公布日期 |
1994.09.21 |
| 申请号 |
EP19890312417 |
申请日期 |
1989.11.29 |
| 申请人 |
MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
OKU, TOMOKI MITSUBISHI DENKI K. K. OPTELECTRONIC |
| 分类号 |
H01L29/812;H01L21/265;H01L21/338;H01L29/08;(IPC1-7):H01L29/60;H01L29/10;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L29/812 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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