发明名称 一种半导体器件及其制造方法
摘要 一种薄膜绝缘栅型场效应晶体管,具有一个表面经过阳极氧化的金属栅,一个氮化硅膜制作在栅电极与栅绝缘膜之间。为了阳极氧化,用金属材料覆盖栅电极的特定部分,然后仅将金属材料及其氧化物一起除去,形成一个金属栅的露出部分而与上面布线连接。另外,在栅电极和栅绝缘膜之间或在基片和基片上的层之间,形成氧化铝或氮化硅层作为刻蚀的阻挡层,以防止过刻蚀,并改进元件的平整度。另外,在无“接触孔”的概念下形成接触。
申请公布号 CN1081022A 申请公布日期 1994.01.19
申请号 CN93104560.6 申请日期 1993.03.27
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 山崎舜平;张宏勇;竹村保彦
分类号 H01L29/784;H01L21/336 主分类号 H01L29/784
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 肖掬昌;张志醒
主权项 1、一种绝缘栅场效应晶体管,包含:在基片上形成的一半导体层;在所说半导体层上形成的一绝缘层;以及在所说绝缘层上形成的栅电极,由从铝、铬、钛、钽、硅、添加0.5~3%硅的铝,以及它的合金构成的组中选择的材料和它的多层组成。其中,所说的绝缘层是从由氧化铝单层、氧化硅单层、氮化硅单层、氧化铝层和氮化硅层形成的双层结构、氧化铝层和氧化硅层形成的双层结构、氮化硅层和氧化硅层形成的双层结构、磷硅玻璃层和氧化硅层形成的双层结构,以及氧化铝层、氧化硅层和氮化硅层形成的三层结构构成的组中选择的结构组成。
地址 日本神奈川县