| 摘要 |
<p>Die Vorrichtung zur selektiven, fortlaufenden, galvanischen Beschichtung eines Bandes hat einen Träger (2), welcher das Band (1) in Längsrichtung führt. Diesem sind gegenüber Elektrolytaustrittsöffnungen (3) angeordnet, durch die der Elektrolyt, der durch eine Pumpe (4) gefördert wurde, auf das durch ein Maskenband (5) abgedeckte Band (1) gesprüht wird. Das Maskenband (5) ist mit mindestens einer Reihe von Löchern (6) versehen und es drückt das Band (1) an den Träger (2). Das Band (1) hat einen Antrieb (7) durch den eine Relativbewegung des Bandes (1) gegenüber dem Maskenband (5) erreicht wird. Der Träger (2) ist geradlinig ausgebildet, ihm sind ein oder mehrere langgestreckte Träger (2) parallele Andrückelemente (8) zugeordnet, die das Maskenband (5) gegen ihn (2) drücken. Der Träger und die Andrückelemente bilden einzeln oder gemeinsam Öffnungen (3) gegenüber den Elektrolytaustrittsöffnungen (3). Diese Öffnungen überlappen sich mit den Löchern (6) des Maskenbandes (5).</p> |
