研磨用组成物及研磨方法

摘要

本发明以提供一种研磨用组成物及使用此研磨用组成物之研磨方法，其可降低使用研磨用组成物进行研磨后之研磨对象物表面之因研磨加工引起之LPD（lightpoint defects）数。本发明之研磨用组成物含由聚乙烯咯烷酮及聚N-乙烯甲醯胺所选出之至少1种水溶性高分子及硷。