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发明名称 VERFAHREN ZUR FOTOLITHOGRAFISCHEN LACKMASKIERUNG
摘要
申请公布号 DD223294(A1) 申请公布日期 1985.06.05
申请号 DD19840260399 申请日期 1984.02.29
申请人 VEB HALBLEITERWERK FRANKFURT (ODER) LEITBETRIEBSBEREICH MIKROELEKTRONIK,DD 发明人 EICHLER,CHRISTOPH,DD;FOERTSCH,PETER,DD;FRIEDRICH,HARALD,DD;KUHNERT,LOTHAR,DD;ZOEBISCH,JOACHIM,DD;HOPPE,RENATE,DD
分类号 H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/308 主分类号 H01L21/308
代理机构 代理人
主权项
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