| 发明名称 |
PHOTOOSENSITIVE RESIN COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS53119995(A) |
申请公布日期 |
1978.10.19 |
| 申请号 |
JP19770036802 |
申请日期 |
1977.03.29 |
| 申请人 |
HITACHI CHEMICAL CO LTD |
发明人 |
OOTANI EIICHI;TASHIRO FUMIO;EBISAWA KATSUO |
| 分类号 |
C08F30/00;C08F2/50;C08F30/02;C08F230/06;C08F290/00;C08F299/00;C08F299/02;C09D5/00;C09D163/10 |
主分类号 |
C08F30/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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