发明名称 |
EVAPORATION EXPOSURE METHOD OF AMORPHOUSSTYPE SEMIICONDUCTOR LAYER |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPS52120680(A) |
申请公布日期 |
1977.10.11 |
申请号 |
JP19760036074 |
申请日期 |
1976.04.02 |
申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
YOSHIDA OKIO |
分类号 |
H01L45/00;H01L21/363;H01L21/365 |
主分类号 |
H01L45/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|