首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 IMPREGNATED CATHODE STRUCTURE, CATHODE SUBSTRATE USED FOR IT, ELECTRON GUN STRUCTURE USING IT, AND ELECTRON TUBE
摘要
申请公布号 KR100260691(B1) 申请公布日期 2000.07.01
申请号 KR19977009143 申请日期 1997.12.08
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 UDA EIICHIRO;HIGUCHI TOSHIHARU;NAKAMRA OSAMU;KOYAMA KIYOMI;MATSUMOTO SADAO;OUCHI YOSHIAKI;KOBAYASHI KAZUO;SUDO TAKASHI;HOMMA KATSUHISA
分类号 H01J1/28;H01J9/04;H01J23/04;H01J23/087;(IPC1-7):H01J29/04 主分类号 H01J1/28
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com