发明名称 一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备
摘要 本发明公开了一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备,包括沉积腔体、进气装置和激光发生器,沉积腔体内设有工作台,沉积腔体上设有激光引入窗,激光发生器发射的激光透过激光引入窗照射到工作台上,进气装置包括进气管,进气管的出气端插入沉积腔体内,进气管的出气口设置于工作台上方,沉积腔体底部设有真空泵。沉积速度快,所得多元氧化薄膜的成分控制精确,实现多层膜的一次沉积。
申请公布号 CN105925961A 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201610315784.6 申请日期 2016.05.12
申请人 武汉理工大学 发明人 涂溶;汪婷;章嵩;可望;张联盟
分类号 C23C16/48(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I 主分类号 C23C16/48(2006.01)I
代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人 崔友明
主权项 一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备,其特征在于,包括沉积腔体、进气装置和激光发生器,沉积腔体内设有工作台,沉积腔体上设有激光引入窗,激光发生器发射的激光透过激光引入窗照射到工作台上,进气装置包括进气管,进气管的出气端插入沉积腔体内,进气管的出气口设置于工作台上方,沉积腔体底部设有真空泵。
地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号