发明名称 HIGH SILICON-CONTENT THIN FILM THERMOSETS
摘要 High silicon-content resin composition that can be used to form thin film thermosets, useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask materials with anti-reflective properties for the photolithography industry are disclosed.
申请公布号 KR20090028514(A) 申请公布日期 2009.03.18
申请号 KR20087029521 申请日期 2008.12.02
申请人 AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. 发明人 ABDALLAH DAVID J.;ZHANG RUZHI
分类号 C08L83/04;C08K5/02;C09D183/04;G03F7/09 主分类号 C08L83/04
代理机构 代理人
主权项
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