SnO₂掺杂ZnO溅射靶材的制备方法

摘要

SnO₂掺杂ZnO溅射靶材的制备方法，选择粒径1‑5μm，纯度≥99.95％的SnO₂和ZnO粉为原料，使用混合设备将其按比例混合均匀，其中SnO₂粉占混合粉质量比的20‑50％。装配石墨模具，在石墨模具内腔表面涂有0.5mm厚的耐高温的ZrO₂保护涂层；把混合粉装入装配好的石墨模具中，并用专用工具捣实。把装好粉并捣实的石墨模具放入氮气氛保护炉中加热加压，即进行热压，炉中加热温度1000℃—1300℃，压力5MPa—30MPa，加热加压时间2—6小时。掺杂提高了ZnO薄膜的综合性能，可实现ZnO基透明导电薄膜在太阳能电池、平板显示器、电磁屏蔽、热镜、紫外探测器等方面有广泛的应用。

主权项

SnO₂掺杂ZnO溅射靶材的制备方法，其特征在于，制备方法的步骤包括：1)：选择粒径1‑5μm，纯度≥99.95％的SnO₂和ZnO粉为原料，使用混合设备将其按比例混合均匀，其中SnO₂粉占混合粉质量比的20‑50％。2)：装配石墨模具，在石墨模具内腔表面涂有0.5mm厚的耐高温的ZrO₂保护涂层；把1)中混合粉装入装配好的石墨模具中，并用专用工具捣实。3)：把2)中装好粉并捣实的石墨模具放入氮气氛保护炉中加热加压，即进行热压，炉中加热温度1000℃—1300℃，压力5MPa—30MPa，加热加压时间2—6小时。4)：将3)中热压好的半成品从氮气保护炉中取出，对半成品进行加工处理，得到一种SnO₂掺杂ZnO溅射靶材。