| 发明名称 |
Electron optical system array, method of fabricating the same, charged-particle beam exposure apparatus, and device manufacturing method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1139384(A3) |
申请公布日期 |
2007.08.29 |
| 申请号 |
EP20010303029 |
申请日期 |
2001.03.30 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
SHIMADA, YASUHIRO;YAGI, TAKAYUKI;ONO, HARUHITO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/12;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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