发明名称 |
マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 |
摘要 |
マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系は、空間分解方式で入射光を透過又は反射する空間光変調器(52)上に光を向ける瞳形成ユニット(36)を含む。対物系(58)は、光射出面(57)上の物体区域(110)の像(110’)が光入射ファセットのうちの1つと完全に一致するように空間光変調器(52)の光射出面(57)を光学インテグレーター(60)の光入射ファセット(75)上に結像する。瞳形成ユニット(36)及び空間光変調器(52)は、物体区域(110)が瞳形成ユニット(36)によって完全に照明され、かつ物体区域(110)内の点に関連付けられた投影光が光入射ファセット(75)のうちの1つの上に入射することが少なくとも部分的かつ可変的に阻止されるように制御される。【選択図】図11 |
申请公布号 |
JP2016541021(A) |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
JP20160533545 |
申请日期 |
2014.11.13 |
申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
デギュンター マルクス;ダヴィデンコ ウラディミール;コルブ トーマス;シュレセナー フランク;ヒルト ステファニー;ホーゲル ウルフガング |
分类号 |
G03F7/20;G02B19/00;G02B26/02 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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