一种磁约束真空离子镀膜装置

摘要

本发明公开了一种磁约束真空离子镀膜装置，包括设有离子镀膜腔和电子回旋共振放电腔的真空容器，所述电子回旋共振放电腔为利用电子回旋共振技术的微波等离子体源,所述离子镀膜腔外侧包含约束腔内等离子体的磁体阵列。还包括有水冷循环和气体循环，电磁线圈控制系统和永磁阵列；电子回旋共振放电腔为两个分别为左放电腔和右放电腔，左、右放电腔的外围分别分布有磁场线圈组和微波窗口，腔体内发热位置设置有水冷管路，且腔体的内部分别覆盖一层电介质，离子镀膜腔内安装有支架，固定基片的卡具通过转轴安装在支架上，离子镀膜腔内壁上设有凹槽，凹槽内有多个可转动的治具用来安装辅助支架，离子镀膜腔外侧圆周位置上设置有永磁体阵列。

主权项

一种磁约束真空离子镀膜装置，其特征在于：包括设有离子镀膜腔和电子回旋共振放电腔的真空容器，所述电子回旋共振放电腔为利用电子回旋共振技术的微波等离子体源,所述离子镀膜腔外侧包含约束腔内等离子体的磁体阵列。