高スループット・パターン形成のための適応ビーム電流

摘要

【課題】ビーム電流を使用して、あるパターンで材料を堆積させる方法および装置において、改良されたビーム処理を提供する。【解決手段】パターン形成中の１回の走査内でビーム電流を変化させる。相対的に小さな特徴部分は、正確さを高めるために低いビーム電流を必要とし、相対的に大きな特徴部分は、より速い堆積を可能にするより高いビーム電流を使用して形成することができる。ビットマップの解析を実行して、パターンのどの領域が微細な特徴部分を生成するために低いビーム電流を必要とし、ビットマップのどの領域を、スループットを向上させるためにより高いビーム電流で書くことができるのかを決定し、より高いビーム電流を使用することによって節減される時間とビーム電流を変更するのに費やされる時間との間のトレードオフを考慮することによって、ビットマップを通るビーム経路の自動最適化を達成する方法及び装置。【選択図】図５