| 摘要 |
본 발명의 과제는, 치수 정밀도가 높은 전사용 패턴을 형성할 수 있는 포토마스크의 제조 방법을 얻는 것이다. 투명 기판 상에, 광학막과, 반사성 박막과, 레지스트막이 적층된, 레지스트 부착 포토마스크 기판을 준비하는 공정과, 레지스트 패턴 형성 공정과, 반사성 박막 패턴을 형성하는, 박막 에칭 공정과, 상기 레지스트 패턴을 제거하는 공정과, 상기 반사성 박막 패턴의 치수를 측정하는, 치수 측정 공정과, 측정된 상기 치수에 기초하여 결정된, 상기 광학막의 에칭 시간에 기초하여, 상기 반사성 박막 패턴을 마스크로 하여, 상기 광학막의 습식 에칭을 행하는, 광학막 에칭 공정과, 상기 반사성 박막을 제거하는 공정을 갖고, 상기 치수 측정 공정에 있어서는, 상기 반사성 박막 패턴의 측정부에 검사광을 조사하고, 상기 검사광의 반사광을 검출함으로써, 상기 치수 측정을 행하는, 포토마스크의 제조 방법이다. |
