发明名称 |
一种适用于涂膜表面的真空镀膜设备 |
摘要 |
本发明公开了一种适用于涂膜表面的真空镀膜设备,设置有上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室;上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室内设有用于挂架产品台的推送机构;上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室之间设置有插板阀;上挂预备腔室、下挂取样腔室与大气连通的一侧采用翻板阀密封。本发明实现了工艺批量生产的连续式真空镀膜设备,在真空镀膜中沉积的金属膜与打底层有良好的结合力,有效提高了产品的质量;可以实现复合装饰涂层产品的连续生产,大大提高了生产效率。 |
申请公布号 |
CN106319467A |
申请公布日期 |
2017.01.11 |
申请号 |
CN201610915915.4 |
申请日期 |
2016.10.20 |
申请人 |
湖南省霖辉高新材料科技有限公司;东莞市霖辉金属表面处理材料有限公司 |
发明人 |
谢辉;周灵平;杨武霖;朱家俊;符立才;李德意 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
北京高航知识产权代理有限公司 11530 |
代理人 |
赵永强 |
主权项 |
一种适用于涂膜表面的真空镀膜设备,其特征在于,所述适用于涂膜表面的真空镀膜设备设置有上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室;所述上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室内设有用于挂架产品台的推送机构;所述上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室之间设置有插板阀;上挂预备腔室、下挂取样腔室与大气连通的一侧采用翻板阀密封。 |
地址 |
410311 湖南省长沙市浏阳经济技术开发区康万路745号 |