发明名称 |
一种改善GaN晶体质量的LED外延结构 |
摘要 |
一种改善GaN晶体质量的LED外延结构,涉及发光二极管外延技术领域。本发明从下至上依次包括图形化衬底、GaN缓冲层、U型GaN层、N型GaN层、InGaN阱层、GaN垒层、电子阻挡层和P型GaN层。其结构特点是,所述U型GaN层从下至上包括U1型GaN层和U2型GaN层。所述U2型GaN层包括交替生长的2D型GaN层和3D型GaN层。同现有技术相比,本发明能有效减小自发极化和压电极化,提高辐射复合几率,从而达到增强LED出光效率的目的。 |
申请公布号 |
CN106159046A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201510135171.X |
申请日期 |
2015.03.26 |
申请人 |
南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司 |
发明人 |
韦春余;林政志;曾颀尧;梁庆荣 |
分类号 |
H01L33/04(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/04(2010.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种改善GaN晶体质量的LED外延结构,它从下至上依次包括图形化衬底(1)、GaN缓冲层(2)、U型GaN层、N型GaN层(4)、InGaN阱层(5)、GaN垒层(6)、电子阻挡层(7)和P型GaN层(8),其特征在于:所述U型GaN层从下至上包括U1型GaN层(3)和U2型GaN层(40),所述U2型GaN层(40)包括交替生长的2D型GaN层(401)和3D 型GaN层(402)。 |
地址 |
226015 江苏省南通市经济技术开发区东方大道499号 |