| 摘要 |
본 발명은 가공물 이외의 구성품에 빔이 직접 조사되는 것을 방지함으로써 진공챔버 내부의 과열을 방지하여 가공의 정밀도 향상을 도모할 수 있는 방열구조를 갖는 빔을 이용한 비접촉 가공장치에 관한 것으로, 내부에 진공압을 제공하는 진공챔버; 상기 진공챔버에 내장되어 빔을 하부로 조사하는 빔조사기; 상기 빔조사기의 하부에 설치된 상태로 표면에 가공물이 고정되는 픽스쳐; 상기 픽스쳐의 하부에서 상기 픽스쳐를 지지하면서 Y축방향으로 이동가능하게 설치되어 상기 픽스쳐와 함께 Y축방향으로 이동하는 Y축스테이지; 상기 Y축스테이지의 하부에 배치된 상태로 상기 Y축스테이지가 Y축방향으로 이동가능하게 결합되고, 상기 진공챔버에 X축방향으로 이동가능하게 결합되어 상기 Y축스테이지와 함께 X축방향으로 이동하는 X축스테이지; 상기 Y축스테이지와 상기 X축스테이지에 제각기 이동력을 제공하는 이송유닛; 및 상기 빔조사기의 빔을 상기 X축스테이지나 상기 Y축스테이지에 직적 조사됨이 없이 상기 진공챔버의 바닥면으로 안내하면서 상기 바닥면을 냉각시켜서 상기 진공챔버 내부의 과열을 방지하는 과열방지부를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
