发明名称 ANTENNA ASSEMBLY FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME
摘要 본 발명은, 안테나 및 안테나와 직렬로 연결되어 공진으로 전류를 증폭시킬 수 있도록 구성되는 공진커패시터를 포함하여 구성되고, 각각 병렬로 연결되는 복수의 안테나, 복수의 안테나에 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원, 안테나와 각각 병렬로 연결되며, 안테나의 출력을 증폭시키는 복수의 공진커패시터, 안테나에서 증폭되는 전류를 변화시킬 수 있도록, 적어도 하나 이상의 가변 소자를 포함하여 구성되는 복수의 공진출력제어부를 포함하여 구성되는 플라즈마 발생모듈 및 이를 포함하는 플라즈마 처리장치가 제공된다. 본 발명에 의할 경우, 복수의 안테나로부터 각각 발생되는 플라즈마를 정밀하게 제어할 수 있는 효과가 있다. 또한, 안테나에 허용전류 이상의 전류가 인가되는 것을 방지하여 안테나의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
申请公布号 KR101663214(B1) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20140172207 申请日期 2014.12.03
申请人 인베니아 주식회사 发明人 홍성재
分类号 H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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