一种化学气相沉积设备的反应系统及沉积设备

摘要

本发明涉及一种化学气相沉积设备的反应系统，包括原料容器、原料容器盖和反应室，所述原料容器位于所述反应系统的最下端，所述原料容器盖盖合在所述原料容器上，所述反应室位于所述原料容器盖上方，在所述原料容器盖上设置原料进气孔，所述原料容器盖是一个独立的进气结构件，所述反应室的所有进气结构全部做在了原料容器盖上。本发明中所述主反应室所有进气结构全部做在了原料容器盖(亦为主反应室底板)上，结构简单易加工；并且本发明中的原料容器内部无任何其他组件，纯粹用来装填原料，结构非常简单，使用方便，且不存在现有技术中所遇到低温保护进气组件和高温蒸发原料发生在同一空间体积内的参数冲突问题。

主权项

一种化学气相沉积设备的反应系统，其特征在于，包括原料容器、原料容器盖和反应室，所述原料容器位于所述反应系统的最下端，所述原料容器盖盖合在所述原料容器上，所述反应室位于所述原料容器盖上方，在所述原料容器盖上设置原料进气孔，所述原料容器盖是一个独立的进气结构件，所述反应室的所有进气结构全部做在了原料容器盖上；所述原料进气孔包括第一原料载气输入孔，所述第一原料载气输入孔从所述原料容器盖的侧面延伸到所述原料容器盖的底面。