| 发明名称 | 一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。本实用新型平面磁控溅射靶通过在靶板的靶面上形成多个密集排布的溅射轨道，使平面磁控溅射靶靶材利用率高、发射的等离子体浓度高、发热相对较为分散、镀出的膜层均匀性好。 | ||
| 申请公布号 | CN205443437U | 申请公布日期 | 2016.08.10 |
| 申请号 | CN201620124930.2 | 申请日期 | 2016.02.17 |
| 申请人 | 东莞市汇成真空科技有限公司 | 发明人 | 李志荣;李志方;罗志明 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人 | 何秋林;周克佑 |
| 主权项 | 一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，其特征在于，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。 | ||
| 地址 | 523820 广东省东莞市大岭山镇颜屋村第四工业区 | ||