发明名称 发光元件及其制作方法
摘要 明是提供一种发光元件及其制作方法,该发光元件含括:一基板;一U型氮化镓层(U-GaN),位于所述基板上;一N型氮化镓层(N-GaN),位于所述U型氮化镓层(U-GaN)上;多层量子井(MQWS),位于所述N型氮化镓层(N-GaN)上方;P型氮化镓层((P-GaN),位于所述多层量子井(MQWS)上方,再依序结合透明导电层及反射层,再藉绝缘层将透明导电层及反射层、P型氮化镓层(P-GaN)、多层量子井(MQWS)作包覆并延伸至少到N型氮化镓层(N-GaN),并在绝缘层的两旁各设以复数个透孔,作为与P型氮化镓层(P-GaN)形成P接触电极,与N型氮化镓层(N-GaN)形成N接触电极;使该矩形延伸的发光元件能提高其发光面积,及提升其散热效果,并使晶片的切割达到最佳的利用效能
申请公布号 TWI533466 申请公布日期 2016.05.11
申请号 TW102106357 申请日期 2013.02.22
申请人 云川科技有限公司 发明人 林立宸
分类号 H01L33/04(2010.01);H01L33/36(2010.01) 主分类号 H01L33/04(2010.01)
代理机构 代理人
主权项 一种发光元件其制作方法,是采在:位于基板上方结合的N型氮化镓层(N-GaN)是为藉蚀刻方式以形成一倾斜而上的两旁层面,并在N型氮化镓层(N-GaN)的预设段落依序结合以略倾斜而上的U型氮化镓层、多层量子井(MQWS)、P型氮化镓层(P-GaN)、与透明导电层及反射层,之后,在沿着透明导电层及反射层的作用层面、和P型氮化镓层(P-GaN)与多层量子井(MQWS)的两旁并延伸至N型氮化镓层(N-GaN)与基板的交界处为覆设一预设厚度的绝缘层,使该绝缘层能藉N型氮化镓层(N-GaN)形成的两旁倾斜而上该层面而获以覆设力足够、易达到所须的厚度,在该绝缘层的两旁预设部位为各预留复数透孔,及利用铬(Cr)、铝(Al)等材料导通N电极和P电极,其中该N电极与该P电极为同一层且同侧排列,而透孔数量的多寡以用来调整电流;做为复续加工点胶、支架用,及N电极在经相应透孔以和N型氮化镓层(N-GaN)形成一N接触电极,而P电极在经相应透孔以透明导电层及反射层、P型氮化镓层(P-GaN)形成一P接触电极,而藉N型氮化镓层(N-GaN)与P型氮化镓层(P-GaN)在和多层量子井(MQWS)的接触电导通后,以将多层量子井(MQWS)产生的光经由反射层之反射,藉由折射原理透过四面八方由各处发射而出。
地址 新北市板桥区文化路一段285巷2弄52号1楼