| 发明名称 | 光刻用清洗液以及使用了其的图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供可改良图案倒塌、表面粗糙度以及表面缺陷的光刻用清洗液和使用了其的图案形成方法。一种光刻用清洗液、以及使用了其的图案形成方法，所述光刻用清洗液至少包含磺酸、具有亚烷基氧基的非离子性表面活性剂以及水。 | ||
| 申请公布号 | CN103443710B | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201280013435.9 | 申请日期 | 2012.03.22 |
| 申请人 | 默克专利有限公司 | 发明人 | 王晓伟;G·鲍洛斯基;松浦裕里子 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 一种光刻用清洗液，其特征在于，其至少包含磺酸、具有亚烷基氧基的非离子性表面活性剂以及水，其中，所述表面活性剂由下述通式(IIa)或者(IIb)表示，[化学式2]<img file="FDA0000804854450000011.GIF" wi="784" he="365" />式中，EO表示‑(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>‑O‑，PO表示‑CH<sub>2</sub>‑CH(CH<sub>3</sub>)‑O‑，EO以及PO的单元分别可以无规地结合，也可形成嵌段，L为碳原子数1～30的烃链，也可包含不饱和键，R<sup>b</sup>为碳原子数5～30的饱和或者不饱和的烃链，r1～r3以及s1～s3是表示EO或者PO的重复数的20以下的整数，r1+s1、以及r2+s2各自独立地为0～20的整数，其中，r1+s1+r2+s2为1以上的整数，r3+s3为1～20的整数。 | ||
| 地址 | 德国达姆施塔特 | ||