发明名称 |
动态随机存取存储器及其制造方法 |
摘要 |
本发明实施例提供一种动态随机存取存储器,包含多个晶体管,位于一半导体基材中,其中每一晶体管各自包含一垂直通道区;多个含位线的沟槽,位于此半导体基材中,其中每一位线含位线的沟槽包含两位线,且每一位线各自与其最邻近的晶体管电连接,且其中每一多个含位线的沟槽的两侧壁上各自具有一接触元件;以及多条字线,位于这些位线上方,电连接这些晶体管。此外,本发明亦提供关于上述动态随机存取存储器的制造方法。 |
申请公布号 |
CN102820300B |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201110156093.3 |
申请日期 |
2011.06.10 |
申请人 |
华邦电子股份有限公司 |
发明人 |
林志豪 |
分类号 |
H01L27/108(2006.01)I;G11C7/18(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/108(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
任默闻 |
主权项 |
一种动态随机存取存储器,其特征在于,包括:多个晶体管,位于一半导体基材中,其中每一晶体管各自包含一垂直通道区;多个含位线的沟槽,位于所述半导体基材中,其中每一所述含位线的沟槽包含两位线,且每一位线各自与其最邻近的晶体管电连接,且其中每一所述多个含位线的沟槽的两侧壁上各自具有一接触元件,其中所述接触元件覆盖含位线的沟槽的两侧壁的暴露部分上;以及多条字线,位于所述位线上方,电连接所述晶体管,其中每一含位线的沟槽中的两位线由一覆盖氧化层相互隔离,且所述覆盖氧化层延伸至所述位线下方的部分的一绝缘层中,其中相邻的两个含有两位线的沟槽,与相邻两个含有两字线的沟槽之间夹设的区域,为所述晶体管之一者的主动区。 |
地址 |
中国台湾台中市 |