发明名称 半导体装置及其制造方法以及电源
摘要 本发明涉及一种半导体装置、一种用于制造半导体装置的方法以及一种电源。本发明的半导体装置包括:半导体芯片,包括氮化物半导体分层结构,该氮化物半导体分层结构包括载流子输运层和载流子供给层;覆盖在半导体芯片的表面上的第一树脂层,该第一树脂层包括偶联剂;覆盖在第一树脂层的表面上的第二树脂层,该第二树脂层包括表面活性剂;以及密封树脂层,用于利用第一树脂层和第二树脂层对半导体芯片进行密封。
申请公布号 CN102637650B 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201210026467.4 申请日期 2012.02.07
申请人 富士通株式会社 发明人 冈本圭史郎;今田忠纮;今泉延弘;渡部庆二
分类号 H01L23/29(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I;H02M7/217(2006.01)I;H02M3/155(2006.01)I 主分类号 H01L23/29(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王萍;陈炜
主权项 一种半导体装置,包括:半导体芯片,包括氮化物半导体分层结构,所述氮化物半导体分层结构包括载流子输运层和载流子供给层;覆盖在所述半导体芯片的表面上的第一树脂层,所述第一树脂层包括偶联剂;覆盖在所述第一树脂层的表面上的第二树脂层,所述第二树脂层包括表面活性剂;以及密封树脂层,用于利用所述第一树脂层和所述第二树脂层对所述半导体芯片进行密封,其中所述第二树脂层被形成为使得所述半导体芯片的表面的所有凹部和凸部完全嵌入所述第二树脂层。
地址 日本神奈川县