| 摘要 |
<p>본 발명은, 성막 장치에 있어서, 제1 처리 가스 및 제2 처리 가스가 순서대로 복수회 그 내부에 공급되는 진공 용기, 기판 적재 영역을 포함하는 일면을 갖고, 상기 기판 적재 영역을 상기 진공 용기 내에서 회전시키는 회전 테이블, 상기 제1 처리 가스를 제1 영역에 공급하는 제1 처리 가스 공급부, 상기 제2 처리 가스를 분리 영역을 통하여 상기 제1 영역으로부터 상기 회전 테이블의 주위 방향으로 이격한 제2 영역에 공급하는 제2 처리 가스 공급부, 상기 진공 용기 내에 플라즈마 발생용 가스를 공급하는 플라즈마 발생 가스 공급부, 상기 회전 테이블의 상기 일면에 대향하고, 유도 결합에 의해 상기 플라즈마 발생용 가스로부터 플라즈마를 플라즈마 공간에서 발생시키는 안테나, 상기 안테나와 상기 플라즈마 공간 사이에 설치되고, 상기 안테나에 직교하는 방향으로 배열되어 있는 복수의 슬릿을 갖고, 접지된, 패러데이 쉴드를 구비하는, 성막 장치에 관한 것이다.</p> |
