发明名称 |
COMPOSITION FOR FORMING BARRIER LAYER, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH BARRIER LAYER, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR SOLAR CELLS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL ELEMENT |
摘要 |
<p>일반식 1: (R)Si(OR)으로 나타내어지는 적어도 1종의 알콕시실란, 폴리실라잔, 및 상기 알콕시실란을 가수 분해하여 축합 중합시킨 실록산 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 규소 함유 화합물과, 유기 바인더와, 분산매를 함유하고, 25℃에 있어서의 점도가 1 ㎩·s∼100 ㎩·s인 배리어층 형성용 조성물. 식 중, R및 R는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기를 나타내고, n은 1∼4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. R또는 R가 2 이상 포함되는 경우, 각 R또는 각 R는 동일하여도 상이하여도 좋다.</p> |
申请公布号 |
KR20150117644(A) |
申请公布日期 |
2015.10.20 |
申请号 |
KR20157018527 |
申请日期 |
2014.02.12 |
申请人 |
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. |
发明人 |
ORITA AKIHIRO;YOSHIDA MASATO;NOJIRI TAKESHI;KURATA YASUSHI |
分类号 |
H01L31/06;C09D183/02;H01L21/225;H01L31/0392;H01L31/04;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L31/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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