| 发明名称 | 通过使用垫调节器的传感器信号控制化学机械抛光的方法及系统 | ||
| 摘要 | 在依照本发明的系统和方法中，使用从垫调节系统的驱动组件来的传感器信号，譬如马达电流信号，来控制CMP系统，以补偿耗材状况的改变，由此增强过程稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN100475445C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200480028542.4 | 申请日期 | 2004.09.17 |
| 申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | G·马克森;J·克拉默;U·G·施特克根 |
| 分类号 | B24B37/00(2006.01)I;B24B53/02(2006.01)I;B24B7/04(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程 伟 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光系统，包括：可控制的抛光头(104)，配置成用来接收衬底(107)并将衬底(107)保持在适当位置；安装在压板(101)上的抛光垫(102)，该压板(101)耦接至第一驱动组件(103)；耦接至第二驱动组件(112)的垫调节组件(110)，该第二驱动组件(112)包括电动马达；以及控制单元(120)，以可操作方式连接至该抛光头(104)和该第二驱动组件(112)，该控制单元(120)配置成用以从该电动马达接收传感器信号(124)，并根据该传感器信号(124)而控制该抛光头(104)。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||