| 发明名称 |
一种磁控溅射台磁水平检测装置 |
| 摘要 |
本实用新型涉及一种次测量装置，特别适用于金属薄膜沉积过程中，一种磁控溅射台磁水平检测装置，包括亥姆霍兹线圈、沉积台和升降台，其特征在于：所述装置包括磁感应强度探针安装在沉积台水平表面上，沉积台在升降台的作用下，位置可以移动。本实用新型有益效果：本实用新型提供一种测量装置，解决匀强磁场和沉积台平面共面的问题。 |
| 申请公布号 |
CN204644460U |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
| 申请号 |
CN201520327826.9 |
申请日期 |
2015.05.19 |
| 申请人 |
中国计量学院 |
发明人 |
乔宪武;吴昊 |
| 分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;G01R33/02(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
一种磁控溅射台磁水平检测装置，包括亥姆霍兹线圈(1)、沉积台(3)和升降台(4)，其特征在于：所述装置包括磁感应强度探针(2)安装在沉积台(3)水平表面上，沉积台(3)在升降台(4)的作用下，位置可以移动。 |
| 地址 |
310018 浙江省杭州市学源街258号中国计量学院 |
