BASE-GENERATING AGENT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION PATTERN FORMATION METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE

摘要

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 전자파의 조사와 가열에 의해 염기를 발생하는 염기 발생제에 관한 것이다. 본 발명은 감도가 우수하고 고분자 전구체의 종류를 불문하고 이용 가능한 염기 발생제이며, 본 발명의 염기 발생제를 포함하는 감광성 수지 조성물은, 노광부와 미노광부에서 큰 용해성 콘트라스트가 얻어지고, 형상이 양호한 패턴을 얻을 수 있다. <화학식 1>