发明名称 一种芍药愈伤组织诱导方法
摘要 本发明属于植物的组织培养领域,具体提供一种芍药愈伤组织诱导方法,具体步骤如下:将经灭菌消毒的芍药茎段先后接种到启动培养基、诱导培养基、增殖培养基、分化培养基进行常规培养,并将获得的愈伤组织接种到不定根诱导培养基进行光照培养或黑暗培养,获得芍药组培苗。本发明所提供的芍药愈伤组织诱导方法操作简单,成本廉价,能够广泛适用于多数芍药品种,有效解决了芍药传统分株繁殖不能满足产业化生产需求,芍药地下芽组培均存在困难的问题。本发明还提供所述芍药愈伤组织诱导方法在芍药繁育中的应用。
申请公布号 CN103733995B 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201310714567.0 申请日期 2013.12.20
申请人 北京林业大学 发明人 于晓南;沈苗苗;汤正娇;张启翔
分类号 A01H4/00(2006.01)I 主分类号 A01H4/00(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王文君
主权项 一种芍药愈伤组织诱导方法,其特征在于,具体步骤如下:将经灭菌消毒的芍药茎段先后接种到启动培养基、诱导培养基、增殖培养基、分化培养基进行常规培养,并将获得的愈伤组织接种到不定根诱导培养基进行光照培养或黑暗培养,获得芍药组培苗;所述启动培养基为:以Ca<sup>2+</sup>浓度加倍的1/2MS固体培养基为基本培养基,含有TDZ的浓度为0.5mg/L、2,4‑D的浓度为0.5mg/L、NAA的浓度为0.5mg/L的培养基;所述诱导培养基为:以WPM固体培养基为基本培养基,含有TDZ的浓度为0.5mg/L、2,4‑D的浓度为0.5mg/L的培养基;所述增殖培养基为:以Ca<sup>2+</sup>浓度加倍的1/2MS固体培养基为基本培养基,含有TDZ的浓度为0.1mg/L、NAA的浓度为0.2mg/L的培养基;所述分化培养基为:以Ca<sup>2+</sup>浓度加倍的1/2MS固体培养基为基本培养基,含有TDZ的浓度为0.1‑0.5mg/L、2,4‑D的浓度为0‑1.0mg/L、NAA的浓度为0‑0.5mg/L的培养基;所述不定根诱导培养基为:以Ca<sup>2+</sup>浓度加倍的1/2MS固体培养基为基本培养基,含有IBA的浓度为1.0mg/L的培养基。
地址 100083 北京市海淀区清华东路35号