发明名称 POLISHING COMPOSITION
摘要 금속 배선층(14)을 갖는 연마 대상물의 연마에 적합하고, 높은 연마 속도를 유지한 채로 단차 결함을 저감시킬 수 있는 연마용 조성물을 제공한다. 금속 배선층(14)을 갖는 연마 대상물의 연마에 사용되는 연마용 조성물이며, 금속 방식제와, 착화제와, 계면 활성제와, 물을 포함하고, 상기 연마용 조성물을 사용하여 상기 연마 대상물을 연마한 후의 연마 대상물 표면의 고체 표면 에너지가 30mN/m 이하로 되는 연마용 조성물. 상기 계면 활성제는, 음이온성 계면 활성제인 것이 바람직하다.
申请公布号 KR20150083085(A) 申请公布日期 2015.07.16
申请号 KR20157010713 申请日期 2013.10.29
申请人 FUJIMI INCORPORATED 发明人 ONISHI SHOGO;ISHIDA YASUTO;HIRANO TATSUHIKO
分类号 C09K3/14;B24B37/00;B24B37/04;C09G1/02;H01L21/321 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
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