| 发明名称 |
溅镀靶及制造彼之方法;SPUTTERING TARGET AND PROCESS FOR PRODUCING IT |
| 摘要 |
本发明系关于一种由Mo合金构成之溅镀靶，该溅镀靶包含周期表之第5族中之至少一种金属，其中第5族金属之平均含量为5at%至15at%且该Mo含量为80at%。该溅镀靶之平均C/O比以(at%/at%)计为1。根据本发明之溅镀靶可藉由成型制造且具有经改良之溅镀行为。 |
| 申请公布号 |
TW201516160 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
| 申请号 |
TW103129321 |
申请日期 |
2014.08.26 |
| 申请人 |
攀时欧洲公司 PLANSEE SE |
发明人 |
莱斐德 尼可拉斯 REINFRIED, NIKOLAUS;舒伯 麦可 SCHOBER, MICHAEL;克娜伯尔 沃尔夫蓝 KNABL, WOLFRAM;温克勒 杰格 WINKLER, JOERG |
| 分类号 |
C22C27/04(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01);B22F3/16(2006.01) |
主分类号 |
C22C27/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
奥地利 AT |
